扩散工艺中，大N2与小N2分别的作用是什么

在扩散工艺中，大N2（氮气）和小N2（通常指含有杂质的氮气）各自扮演着不同的角色。以下是它们的作用概述：

大N2的作用：

1. 作为扩散气体：大N2在扩散过程中作为主要的气体环境，有助于控制扩散速率和均匀性。2
2. 提高电阻均匀性：增加大N2的流量可以提高电阻的均匀性，这有助于制造更高质量的半导体器件。5
3. 作为保护气体：在扩散过程中，大N2可以作为保护气体，防止硅片表面氧化或其他化学反应的发生。8

小N2的作用：

1. 携带杂质：小N2可能含有需要扩散到硅片中的杂质，例如磷或硼，这些杂质在扩散过程中会形成PN结。8
2. 影响扩散均匀性：小N2的流量和纯度会影响扩散层的均匀性，进而影响器件的性能。5
3. 与大N2协同作用：在某些扩散工艺中，小N2与大N2共同作用，以实现特定的扩散效果和控制扩散过程。2

在扩散工艺中，大N2和小N2的流量、纯度和温度等参数都需要精确控制，以确保扩散层的质量和均匀性，这对于制造高性能的半导体器件至关重要。10