化学清洗与制绒工艺的主要目的？

化学清洗与制绒工艺在硅片生产中扮演着至关重要的角色，其主要目的包括以下几点：

1. 去除硅片表面机械损伤层：在硅片的制造过程中，可能会因为切割、搬运等原因在表面形成损伤层。化学清洗可以有效地去除这些损伤层，确保硅片表面的质量34。

2. 清除表面油污、杂质颗粒及金属杂质：硅片在生产和加工过程中可能会沾染油污、杂质颗粒和金属杂质。化学清洗利用特定的化学溶液，如NaOH、HF、HCL等，对硅片进行腐蚀处理，以去除这些污染物34。

3. 形成起伏不平的绒面：制绒工艺的目的是在硅片表面形成绒面，这种绒面结构可以增加硅对太阳光的吸收，减少光的反射率，从而提高短路电流（Isc）和电池的光电转换效率123。

4. 增加光在太阳电池片表面的散射：绒面凹凸不平的结构可以增加二次反射，改变光的入射方式和路径，这有助于提高光的利用率和电池的性能2。

5. 制备绒面以减少光的反射率：通过化学清洗和制绒工艺，硅片表面形成的绒面有助于减少光的反射，提高电池的光电转换效率7。

6. 防止硅片表面吸收污染物：从制绒槽出来的硅片表面是亲水性的，容易吸收周围的污染物。化学清洗可以减少硅片表面对污染物的吸收，保持硅片的清洁度6。

综上所述，化学清洗与制绒工艺的主要目的是确保硅片表面的清洁度和质量，通过形成特定的表面结构来提高硅片对光的吸收和利用效率，从而提升太阳能电池的性能。