半导体干法刻蚀技术：原子层工艺

• 《半导体干法刻蚀技术：原子层工艺》是一本专业书籍。

书籍信息

• 作者：索斯藤·莱尔
• 出版社：机械工业出版社
• 定价：¥119.00
• ISBN：9787111734260
• 出版时间：2023-10-01

内容简介

• 技术介绍：书中介绍了热刻蚀、热各向同性ALE、自由基刻蚀、定向ALE、反应离子刻蚀、离子束刻蚀等技术。
• 应用领域：适用于微电子学、固体电子学、电子科学与技术、集成电路科学与工程等专业。
• 内容特点：概念清晰，资料丰富，内容新颖，有助于理解干法刻蚀技术的原子层次。

作者简介

• Thorsten Lill：美国泛林集团副总裁，物理学博士学位，拥有89项专利，发表了88篇文章。

目录概览

• 第1章：引言
• 第2章：理论基础
• 第3章：热刻蚀
• 第4章：热各向同性ALE
• ...：更多章节深入探讨各种刻蚀技术及其应用。4567