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最早能生产193纳米光刻机的企业

bbd20cc16
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深入研究一些

最早生产193纳米光刻机的企业未明确指出。

早期光刻技术发展

  • 1957年：杰伊·拉特罗普和詹姆斯·纳尔发明缩微光刻技术。3
  • 1959年：仙童半导体制造首台“步进重复”相机。5
  • 1974年：中国开始研制GK-3型半自动光刻机。8
  • 1980年：徐端颐团队完成国内首台自动对准分步投影光刻机。6
你觉得结果怎么样？
193纳米光刻技术发展历程
193纳米光刻机的工作原理
光刻机制造技术难点
光刻机市场主要竞争者
光刻机在芯片制造中的作用
光刻机技术的未来发展趋势

以上内容由AI搜集生成，仅供参考

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